Details
Beschreibung
Plasma-CVD für runde Wafer bis 100 mm Durchmesser, Herstellung von Oxiden, Nitriden, Poly und Germanium, Substrattemperatur bis 400 °C (OXFORD PLASMALAB 90)
Kontaktinformationen
| Name | Oliver Kerker |
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| Zur Ausleihe/Buchung verfügbar | Bitte kontaktieren Sie die Ansprechperson |
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